厚膜电阻和薄膜电阻的关键差异
出处:网络整理 发布于:2025-08-25 17:00:45
厚膜工艺电阻体形成过程
薄膜工艺电阻体形成过程
薄膜电阻是采用溅射工艺在基板上形成电阻体。溅射是在基板上淀积薄膜常用的方法,它是一种物理过程。靶(作阴极)被高能正离子轰击,产生辉光放电,转变能量,进行能量传递,把靶材的粒子弹出,这些弹出的粒子落在阳极或接地的支架夹持着的产品基板上淀积成薄膜层,即为电阻层。薄膜工艺能够控制电阻层的厚度和成分,因此薄膜电阻的精度可以达到 ±0.1% - ±0.01%,温度系数也较小,一般在 ±25ppm/℃ - ±50ppm/℃。
薄膜电阻与厚膜电阻特点比较
薄膜电阻与厚膜电阻外观比较
在外观上,两者也存在一定差异。厚膜电阻的表面相对较为粗糙,颜色通常较深;而薄膜电阻的表面更加光滑,颜色相对较浅。
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